કંપની સમાચાર

પ્લાસ્ટિક મોલ્ડને પોલિશ કરવાની પદ્ધતિ

યાંત્રિક પોલિશિંગ

યાંત્રિક પોલિશિંગ એ પોલિશિંગ પદ્ધતિ છે જે સરળ સપાટી મેળવવા માટે પોલિશ્ડ બહિર્મુખ ભાગોને દૂર કરવા માટે સામગ્રીની સપાટીના કટીંગ અને પ્લાસ્ટિક વિકૃતિ પર આધાર રાખે છે. સામાન્ય રીતે, તેલના પથ્થરની લાકડીઓ, ઊનના પૈડા, સેન્ડપેપર વગેરેનો ઉપયોગ કરવામાં આવે છે, અને મેન્યુઅલ કામગીરી મુખ્ય પદ્ધતિ છે. ફરતી બોડીની સપાટી જેવા ખાસ ભાગોનો ઉપયોગ કરી શકાય છે. ટર્નટેબલ જેવા સહાયક સાધનોનો ઉપયોગ કરીને, ઉચ્ચ સપાટી ગુણવત્તા આવશ્યકતાઓ ધરાવતા લોકો માટે અલ્ટ્રા-પ્રિસિઝન પોલિશિંગનો ઉપયોગ કરી શકાય છે. અલ્ટ્રા-પ્રિસિઝન પોલિશિંગ એ ખાસ ઘર્ષક સાધનોનો ઉપયોગ છે, જે હાઇ-સ્પીડ રોટેશન માટે ઘર્ષક ધરાવતા પોલિશિંગ પ્રવાહીમાં વર્કપીસની પ્રોસેસ્ડ સપાટી પર ચુસ્તપણે દબાવવામાં આવે છે. આ તકનીકનો ઉપયોગ કરીને, Ra0.008μm ની સપાટીની ખરબચડી પ્રાપ્ત કરી શકાય છે, જે વિવિધ પોલિશિંગ પદ્ધતિઓમાં સૌથી વધુ છે. ઓપ્ટિકલ લેન્સ મોલ્ડ ઘણીવાર આ પદ્ધતિનો ઉપયોગ કરે છે.

કેમિકલ પોલિશિંગ

રાસાયણિક પોલિશિંગ એ રાસાયણિક માધ્યમમાં રહેલા પદાર્થના સપાટીના સૂક્ષ્મ બહિર્મુખ ભાગને અંતર્મુખ ભાગ કરતાં વધુ ઓગાળીને સરળ સપાટી મેળવવાનો છે. આ પદ્ધતિનો મુખ્ય ફાયદો એ છે કે તેને જટિલ સાધનોની જરૂર નથી, તે જટિલ આકારવાળા વર્કપીસને પોલિશ કરી શકે છે, અને ઉચ્ચ કાર્યક્ષમતા સાથે એક જ સમયે અનેક વર્કપીસને પોલિશ કરી શકે છે. રાસાયણિક પોલિશિંગની મુખ્ય સમસ્યા પોલિશિંગ પ્રવાહીની તૈયારી છે. રાસાયણિક પોલિશિંગ દ્વારા મેળવેલી સપાટીની ખરબચડી સામાન્ય રીતે ઘણી 10 μm હોય છે.

ઇલેક્ટ્રોલિટીક પોલિશિંગ

ઇલેક્ટ્રોલાઇટિક પોલિશિંગનો મૂળભૂત સિદ્ધાંત રાસાયણિક પોલિશિંગ જેવો જ છે, એટલે કે, સપાટીને સરળ બનાવવા માટે સામગ્રીની સપાટી પરના નાના પ્રોટ્રુઝનને પસંદગીયુક્ત રીતે ઓગાળીને. રાસાયણિક પોલિશિંગની તુલનામાં, કેથોડ પ્રતિક્રિયાની અસરને દૂર કરી શકાય છે, અને અસર વધુ સારી છે. ઇલેક્ટ્રોકેમિકલ પોલિશિંગ પ્રક્રિયાને બે તબક્કામાં વહેંચવામાં આવી છે: (1) મેક્રોસ્કોપિક લેવલિંગ ઓગળેલા ઉત્પાદનો ઇલેક્ટ્રોલાઇટમાં ફેલાય છે, અને સામગ્રીની સપાટીની ભૌમિતિક ખરબચડી ઘટે છે, Ra>1μm. ⑵ ઓછા પ્રકાશનું સ્તરીકરણ: એનોડ ધ્રુવીકરણ, સપાટીની તેજસ્વીતામાં સુધારો થાય છે, Ra<1μm.

અલ્ટ્રાસોનિક પોલિશિંગ

વર્કપીસને ઘર્ષક સસ્પેન્શનમાં મૂકો અને તેને અલ્ટ્રાસોનિક ફિલ્ડમાં એકસાથે મૂકો, અલ્ટ્રાસોનિકની ઓસિલેશન અસર પર આધાર રાખીને, જેથી ઘર્ષક વર્કપીસની સપાટી પર ગ્રાઉન્ડ અને પોલિશ્ડ થાય. અલ્ટ્રાસોનિક મશીનિંગમાં એક નાનું મેક્રોસ્કોપિક બળ હોય છે અને તે વર્કપીસને વિકૃતિનું કારણ બનશે નહીં, પરંતુ ટૂલિંગનું ઉત્પાદન અને ઇન્સ્ટોલ કરવું મુશ્કેલ છે. અલ્ટ્રાસોનિક પ્રોસેસિંગને રાસાયણિક અથવા ઇલેક્ટ્રોકેમિકલ પદ્ધતિઓ સાથે જોડી શકાય છે. દ્રાવણના કાટ અને વિદ્યુત વિચ્છેદન-વિશ્લેષણના આધારે, દ્રાવણને હલાવવા માટે અલ્ટ્રાસોનિક વાઇબ્રેશન લાગુ કરવામાં આવે છે, જેથી વર્કપીસની સપાટી પર ઓગળેલા ઉત્પાદનો અલગ થઈ જાય, અને સપાટીની નજીક કાટ અથવા ઇલેક્ટ્રોલાઇટ એકસમાન રહે; પ્રવાહીમાં અલ્ટ્રાસોનિકની પોલાણ અસર પણ કાટ પ્રક્રિયાને અટકાવી શકે છે અને સપાટીને તેજસ્વી બનાવવાનું સરળ બનાવી શકે છે.

પ્રવાહી પોલિશિંગ

પ્રવાહી પોલિશિંગ પોલિશિંગના હેતુને પ્રાપ્ત કરવા માટે વર્કપીસની સપાટીને ધોવા માટે તેના દ્વારા વહન કરાયેલ હાઇ-સ્પીડ વહેતા પ્રવાહી અને ઘર્ષક કણો પર આધાર રાખે છે. સામાન્ય રીતે ઉપયોગમાં લેવાતી પદ્ધતિઓ છે: ઘર્ષક જેટ પ્રોસેસિંગ, પ્રવાહી જેટ પ્રોસેસિંગ, હાઇડ્રોડાયનેમિક ગ્રાઇન્ડીંગ અને તેથી વધુ. હાઇડ્રોડાયનેમિક ગ્રાઇન્ડીંગ હાઇડ્રોલિક દબાણ દ્વારા ચલાવવામાં આવે છે જેથી ઘર્ષક કણો વહન કરતા પ્રવાહી માધ્યમ વર્કપીસની સપાટી પર ઉચ્ચ ગતિએ આગળ અને પાછળ વહે છે. આ માધ્યમ મુખ્યત્વે ખાસ સંયોજનો (પોલિમર જેવા પદાર્થો) થી બનેલું છે જેમાં ઓછા દબાણ હેઠળ સારી પ્રવાહિતા હોય છે અને ઘર્ષક સાથે મિશ્રિત થાય છે. ઘર્ષક સિલિકોન કાર્બાઇડ પાવડરથી બનાવી શકાય છે.

મેગ્નેટિક ગ્રાઇન્ડીંગ અને પોલિશિંગ

ચુંબકીય ઘર્ષક પોલિશિંગ એટલે ચુંબકીય ઘર્ષકનો ઉપયોગ કરીને વર્કપીસને ગ્રાઇન્ડ કરવા માટે ચુંબકીય ક્ષેત્રની ક્રિયા હેઠળ ઘર્ષક બ્રશ બનાવવા. આ પદ્ધતિમાં ઉચ્ચ પ્રક્રિયા કાર્યક્ષમતા, સારી ગુણવત્તા, પ્રક્રિયાની સ્થિતિનું સરળ નિયંત્રણ અને સારી કાર્યકારી પરિસ્થિતિઓ છે. યોગ્ય ઘર્ષકનો ઉપયોગ કરીને, સપાટીની ખરબચડી Ra0.1μm સુધી પહોંચી શકે છે. 2 આ પદ્ધતિના આધારે યાંત્રિક પોલિશિંગ પ્લાસ્ટિક મોલ્ડની પ્રક્રિયામાં ઉલ્લેખિત પોલિશિંગ અન્ય ઉદ્યોગોમાં જરૂરી સપાટી પોલિશિંગથી ખૂબ જ અલગ છે. કડક શબ્દોમાં કહીએ તો, ઘાટના પોલિશિંગને મિરર પ્રોસેસિંગ કહેવું જોઈએ. તેમાં ફક્ત પોલિશિંગ માટે ઉચ્ચ આવશ્યકતાઓ જ નથી, પરંતુ સપાટીની સપાટતા, સરળતા અને ભૌમિતિક ચોકસાઈ માટે પણ ઉચ્ચ ધોરણો છે. સપાટી પોલિશિંગ માટે સામાન્ય રીતે ફક્ત તેજસ્વી સપાટીની જરૂર હોય છે. મિરર સપાટી પ્રક્રિયાના ધોરણને ચાર સ્તરોમાં વિભાજિત કરવામાં આવે છે: AO=Ra0.008μm, A1=Ra0.016μm, A3=Ra0.032μm, A4=Ra0.063μm. ઇલેક્ટ્રોલાઇટિક પોલિશિંગ અને પ્રવાહી પોલિશિંગ જેવી પદ્ધતિઓને કારણે ભાગોની ભૌમિતિક ચોકસાઈને ચોક્કસ રીતે નિયંત્રિત કરવી મુશ્કેલ છે. જો કે, રાસાયણિક પોલિશિંગ, અલ્ટ્રાસોનિક પોલિશિંગ, ચુંબકીય ઘર્ષક પોલિશિંગ અને અન્ય પદ્ધતિઓની સપાટીની ગુણવત્તા જરૂરિયાતોને પૂર્ણ કરતી નથી, તેથી ચોકસાઇવાળા મોલ્ડની મિરર પ્રોસેસિંગ હજુ પણ મુખ્યત્વે યાંત્રિક પોલિશિંગ છે.